多孔陶瓷吸附純化器 PCAP

首頁多孔陶瓷吸附純化器 PCAP

Product
Introduction

專為氫氣純化而設計的高效設備

有效去除氫氣中的各類雜質，實現高純度氫氣。產品廣泛適用於半導體產業電子級氫氣純化、石化產業副產氫氣純化，以及各類工業氫氣純化處理等。

PCAP 採用大量直徑約 1 mm、內部具微孔結構的陶瓷管所構成，具備低壓損特性，可依客戶需求於近常壓或高壓條件下穩定運作，並快速吸附雜質氣體分子，可將氫氣純度提升至6N（99.9999%）以上，滿足半導體製程需求，整體回收率最高可達95%。系統採模組化設計，可根據不同氣體組成與雜質特性，彈性搭配專用吸附材料，精準去除各類污染物，包括水分（H₂O）、氧氣（O₂）、低濃度氮氣（N₂, <1%）、二氧化碳（CO₂）、硫化氫（H₂S）、氨氣（NH₃）、揮發性有機物（VOCs）及其他等。

此外，隨著先進製程對氣體純度要求持續提升，例如惰性氣體氬氣（Ar）的去除，或氦氣（He）純化等應用需求，鼎佳PCAP系統亦可依客戶製程條件進行客製化設計，提供高彈性且可擴展的氣體純化解決方案。

效能測試：
這個實際的商業案例，同時導入了PCAP與ECHP技術。
下表總結了PCAP處理前後的性能表現。PCAP能夠有效將多種雜質，包括一氧化碳（CO）、氨氣（NH₃）、硫化氫（H₂S）以及磷化氫（PH₃），從ppm等級降低至ppb等級。

Operating
principle

PCAP設備使用大量1毫米的多孔陶瓷管。
這些管子能快速吸附各種雜質分子，同時允許氫氣通過。
PCAP能有效去除水分、氧氣、氨氣、硫化氫、VOCs以及低濃度氮氣和各種其他污染物。它同時進行吸附和再生，確保系統連續運行不中斷。此系統採用模組化設計，可根據不同雜質提供靈活配置，易於擴展和維護。